Recenzie Development of HfO2-Based Ferroelectric Memories for Future CMOS Technology Nodes

Development of HfO2-Based Ferroelectric Memories for Future CMOS Technology Nodes

Development of HfO2-Based Ferroelectric Memories for Future CMOS Technology Nodes

Müller, Stefan Ferdinand
49,42 €
Zobraziť knihu

Recenzie

0
Overené recenzie sú tak výslovne označené, ostatné sú neoverené.
Nie sú tu žiadne recenzie. Buďte prvý/-á a napíšte tú svoju!